עקרון תחריט פלזמה

תחריט פלזמה אינדוקטיבי (ICPE) הוא תוצאה של שילוב של תהליכים כימיים ופיזיקליים. העיקרון הבסיסי שלו הוא שתחת ואקום ולחץ נמוך, תדר הרדיו שנוצר על ידי ספק כוח ICP RF יוצא לסליל צימוד טורואידי. גז חריטה מעורב בפרופורציה מסוימת מחובר לפריקת זוהר, ויוצר פלזמה בצפיפות- גבוהה. בהשפעת ה-RF באלקטרודה התחתונה, פלזמה זו מפגיזה את פני המצע, ושוברת את הקשרים הכימיים של החומר המוליך למחצה באזור המעוצב של המצע. חומרים נדיפים אלו מגיבים עם גז התחריט ויוצרים תרכובות נדיפות, אשר לאחר מכן נפרדות מהמצע כגזים ונשאבות החוצה מקו הוואקום.