יישומים ספציפיים של חומרי ניקוי פלזמה

מכונות ניקוי/תחריט פלזמה מייצרות פלזמה על ידי הנחת שתי אלקטרודות במיכל אטום ליצירת שדה חשמלי. משאבת ואקום משמשת לשמירה על רמת ואקום מסוימת. ככל שהגז הופך ליותר ויותר נדיר, המרחק בין מולקולות לתנועה החופשית של מולקולות או יונים גדל גם הוא. בהשפעת השדה החשמלי, יונים אלה מתנגשים ויוצרים פלזמה. יונים אלה הם מאוד תגובתיים, עם מספיק אנרגיה כדי לשבור כמעט את כל הקשרים הכימיים, מה שגורם לתגובות כימיות על כל משטח חשוף. לפזמות גז שונות יש תכונות כימיות שונות. לדוגמה, פלזמת חמצן מחמצנת מאוד, מסוגלת לחמצן photoresist לייצר גז, ובכך להשיג אפקט ניקוי. פלזמה גז קורוזיבי יש אנזוטרופיה מעולה, אשר עונה על הדרישות של תחריט. טיפול בפלזמה מייצר זוהר, ומכאן השם זוהר פריקה.
מנגנון ניקוי הפלזמה מסתמך בעיקר על "הפעלה" של חלקיקים פעילים בפלזמה להסרת כתמי פני השטח. מבחינת מנגנון התגובה, ניקוי פלזמה כולל בדרך כלל את התהליך הבא: גזים אנאורגניים נרגשים למצב פלזמה; חומרים גזים נספגים על פני השטח המוצקים; הקבוצות הנספגות מגיבות עם מולקולות על פני השטח המוצקים ליצירת מולקולות תוצר; מולקולות התוצר מתפרקות לשלב הגז; ושאריות התגובה מוסרות מעל פני השטח.

התכונה המשמעותית ביותר של טכנולוגיית ניקוי פלזמה היא שהיא יכולה לטפל בכל סוג מצע, כולל מתכות, מוליכים למחצה, תחמוצות, ורוב החומרים הפולימריים כגון פוליפרופילן, פוליאסטר, פוליאמיד, פוליוויניל כלוריד, אפוקסי ואפילו פולי-טטראפלואורואתילן. זה יכול לנקות גם את כל פני השטח ואזורים ספציפיים, כמו גם מבנים מורכבים.